د TaC پوښل شوی پورس ګرافایټ پلیټ

زموږ د TaC پوښل شوی سوري ګرافایټ پلیټ یو لوړ فعالیت لرونکی مرکب مواد دی چې د لوړ تودوخې، تعاملاتي اتموسفیر کې د دودیزو ګرافایټ اجزاو محدودیتونو لرې کولو لپاره ډیزاین شوی. اساس یو سوري ګرافایټ سبسټریټ دی، د ګرافایټ یو سپک وزن، خورا مستحکم بڼه د یو بل سره تړلي سوري شبکې سره. دا ځانګړی جوړښت د لوړې سطحې ساحه او غوره حرارتي ملکیتونه چمتو کوي.

د دقیق کیمیاوي بخاراتو د زیرمه کولو (CVD) پروسې په کارولو سره، د ټانټالم کاربایډ (TaC) یو ګڼ، پتلی طبقه په سطحه پلي کیږي. دا ریفراکټري سیرامیک کوټینګ د یو قوي محافظتي خنډ په توګه کار کوي، د سوري ګرافایټ مهر کوي او په ډراماتیک ډول د هغې میخانیکي، کیمیاوي او حرارتي فعالیت لوړوي.

په پرمختللي سیمیکمډکټر تولید کې غوښتنلیکونه

د سوري ګرافایټ او د TaC کوټینګ همغږي دا مواد په څو مهمو سیمیکمډکټر پروسو کې یو لازمي جز ګرځوي، په ځانګړي توګه هغه چې لوړ تودوخې او زنګ وهونکي ګازونه پکې شامل دي. د دې لومړني غوښتنلیکونه پدې کې شامل دي:

● د سیلیکون کاربایډ (SiC) کرسټال وده: د TaC پوښل شوي پلیټونه د فزیکي بخار ټرانسپورټ (PVT) کرسټال ودې فرنسونو لپاره اړین دي. دوی د کروسیبلونو، موصلیت بورډونو، جریان لارښودونو، او تخم ساتونکو په توګه کارول کیږي. دا پوښ د SiC کرسټال د کاربن ککړتیا مخه نیسي، چې د لوړ کیفیت، عیب څخه پاک کرسټالونو ته د ښه حاصلاتو نرخونو سره لار هواروي.

● د فلزي-عضوي کیمیاوي بخار زیرمه (MOCVD): د GaN او GaAs په څیر پرمختللي وسایلو د تولید لپاره د MOCVD ریکټورونو کې، زموږ پلیټونه د سسپټرونو او ویفر کیریرونو په توګه کار کوي. د TaC کوټینګ د هایدروجن (H2) او امونیا (NH3) په څیر د خورا فعال ګازونو په وړاندې استثنایی مقاومت چمتو کوي، د اجزاو عمر اوږدوي او د پروسې پاکوالی ساتي.

● د لوړې تودوخې انیلینګ او ایپیټیکسي: د موادو حرارتي ثبات او کیمیاوي غیر فعالتیا دا د فرنس اجزاو لپاره مثالی کوي چې د لوړ تودوخې انیل کولو او ایپیټیکسیل ودې پروسو کې کارول کیږي، یونیفورم تودوخه تضمینوي او د ککړتیا مخه نیسي.

کلیدي فزیکي ځانګړتیاوې او ګټې

د TaC پوښل شوي سوري ګرافایټ پلیټ د غوره ملکیتونو سیټ لخوا تعریف شوی چې ستاسو د تولید لاین لپاره مستقیم د پام وړ عملیاتي ګټو ته ژباړل کیږي.

۱. خورا حرارتي او میخانیکي ثبات

ملکیت: تر ۲۲۰۰ درجو سانتي ګراد پورې ساختماني بشپړتیا ساتي (په غیر اکسیډیز کولو فضا کې).

ګټې: دا استثنایی حرارتي ثبات د موادو د تخریب یا شکل د خرابوالي پرته د خورا لوړ تودوخې پروسو کې د ګړندي دورې وختونو او کارولو ته اجازه ورکوي. د TaC کوټینګ د مسام لرونکي ګرافایټ میخانیکي ځواک او د سوځیدنې مقاومت هم د پام وړ زیاتوي، چې دا ډیر دوامدار او د چپ کولو او اغوستلو په وړاندې مقاومت لري.

۲. غوره کیمیاوي بې ثباتي او پاکوالی

ملکیت: د TaC کوټینګ د H2، HCl، او NH3 په ګډون د پراخو زنګ وهونکو ګازونو په وړاندې خورا مقاومت لري. دا مواد د ناپاکۍ خورا ټیټه کچه لري، معمولا د 5ppm څخه کم.

ګټې: دا د ګازو ضد خنډ چمتو کوي چې د ګرافایټ سبسټریټ څخه د ناپاکۍ د وتلو مخه نیسي. دا په پراخه کچه ککړتیا او د ذراتو توییدل کموي، کوم چې د نیمه سیمیکمډکټر جوړولو کې د نیمګړتیاوو او ټیټ حاصلاتو لوی لاملونه دي.

3. مطلوب حرارتي مدیریت

ملکیت: دا مواد لوړ حرارتي چالکتیا لري (د سوري ګرافایټ لپاره 120−160W/m⋅K) او د خپریدو ځانګړی حد یې تقریبا 0.3 دی.

ګټې: د دې ځانګړتیاوو ترکیب د پلیټ په سطحه کې د تودوخې غوره او یوشان ویش تضمینوي. دا د کرسټال ودې او ایپیټیکسي په څیر پروسو لپاره خورا مهم دی، چیرې چې د تودوخې تدریجي باید د لوړ کیفیت، یونیفورم فلمونو او کرسټالونو ترلاسه کولو لپاره کم شي.

د سیمیکمډکټر غوښتنلیکونو لپاره د پرمختللي سیرامیک کوټینګونو او ګرافایټ حلونو کې د لسیزو تخصص سره، سیمیکسلاب د اعظمي فعالیت، دقت او پایښت لپاره انجینر شوي محصولات وړاندې کوي. زموږ د TaC پوښل شوي مسام ګرافایټ پلیټ د سیمیکمډکټر جوړونکو لپاره غوره انتخاب دی چې د باور وړ، لوړ پاکوالي، او اوږدمهاله حلونو په لټه کې دي. موږ ستاسو د نورو پوښتنو هرکلی کوو.