د سي سي سیرامیک جھلی

په پرمختللي سیمیکمډکټر تولید کې، د SiC سیرامیک غشا د څو اړخیزو برخو په توګه کار کوي چې مستقیم د پروسې ثبات، ویفر یونیفورم، او د حاصلاتو ټولیز فعالیت اغیزه کوي. د CVD، MOCVD، او PECVD سیسټمونو دننه، دا د پروسې ګازونو او د عکس العمل چاپیریال ترمنځ د یو مهم انٹرفیس په توګه کار کوي، د جریان متحرکاتو، حرارتي توازن، او د ککړتیا فشار دقیق کنټرول ډاډمن کوي.

د خپل خورا یونیفورم سوري جوړښت له لارې، د SiC غشا د ویفر سطحې په اوږدو کې لامینار او په مساوي ډول ویشل شوي ګاز تحویل ته وده ورکوي. دا یونیفورم جریان ساحه د مخکیني غلظت کې محلي بدلونونه کموي، په دې توګه د ایپیټیکسیل یا ډایالټریک زیرمو په جریان کې د فلم ضخامت یووالي او جوړښتي ثبات لوړوي. په ورته وخت کې، د غشا ښه سوري جوړښت د مؤثره لوړ تودوخې ذراتو فلټر په توګه کار کوي، کنډنسیټونه، کاربن پاتې شوني، او فرعي مایکرون ذرات د فعال ویفر زون ته رسیدو دمخه نیسي - د عیب کثافت کمولو او د وسیلې لوړ اعتبار ساتلو لپاره یو اړین فاکتور.

د جریان او فلټریشن هاخوا، د SiC سیرامیک میټریکس د پروسې چیمبر دننه یو قوي حرارتي او کیمیاوي خنډ چمتو کوي. دا د غبرګون وړ ډولونو څخه حساس اجزا جلا کوي، د شا ککړتیا کموي، او د اوږدې تولید دورې په جریان کې د چیمبر پاکوالی ساتي. د اخراج په سیمو کې، ورته جھلی ټیکنالوژي د فشار ثبات او د پاتې فرعي محصولاتو د نیولو لپاره کارول کیدی شي، د پاک اخراج لینونو او اوږد ساتنې وقفو کې مرسته کوي.

د دې دندو په یو واحد دوامدار برخې کې مدغم کولو سره، د SiC سیرامیک جھلی نه یوازې د CVD او MOCVD ریکټورونو عملیاتي موثریت ته وده ورکوي بلکه د پروسې یو ډیر باثباته او تکرار وړ چاپیریال هم فعالوي - یو داسې چاپیریال چې د راتلونکي نسل سیمیکمډکټر جوړونې سخت پاکوالي او فعالیت اړتیاوې پوره کوي.

د سي سي سیرامیک غشا څنګه جوړیږي؟