د لوړ پاکوالي اسوسټیټیک ګرافایټ سیل کولو حلقې

د سیمیکسلاب څخه د لوړ پاکوالي ایزوسټاټیک ګرافایټ سیل کولو حلقې د الټرا لوړ پاکوالي ایزوسټاټیک فشار شوي ګرافایټ څخه جوړ شوي، دا سیل کولو حلقې مستحکم، ټیټ ککړتیا سیل کولو فعالیت چمتو کوي چې په مستقیم ډول د پروسې اعتبار، حاصلاتو ثبات، او د پرمختللي مخکینۍ پای ویفر جوړونې پروسو کې د تجهیزاتو اپټایم ملاتړ کوي.

په ایپیټیکسي سیسټمونو کې، چیرې چې د ګاز جریان، د فشار ثبات، او تودوخې یووالي دقیق کنټرول اړین دی، د سیمیکسلاب د لوړ پاکوالي ایزوسټاټیک ګرافایټ سیل کولو حلقې د ریکټر بشپړتیا ساتلو کې مهم رول لوبوي په دوامداره تودوخه کې چې ډیری وختونه له 1000 °C څخه ډیر وي. د چیمبر انٹرفیسونو، سیل کولو سرحدونو، او د ګرم زون دننه څرخیدونکي یا سټیشنري بندونو کې نصب شوي، دا سیل کولو حلقې ټیټ او ایزوټروپیک حرارتي توسع ښیې، دوی ته اجازه ورکوي چې د تکراري تودوخې سایکلینګ پرمهال ابعادي ثبات وساتي. د دوی استثنایی ټیټ فلزي ناپاکۍ مینځپانګه د غیر ارادي ډوپینټ شاملولو یا فلزي ککړتیا خطر کموي، د یونیفورم ایپیټیکسیل پرت ضخامت، کنټرول شوي ډوپینګ پروفایلونه، او د سیلیکون او مرکب سیمیکمډکټر ایپیټیکسي پروسو کې د لوړ کیفیت کرسټالین وده ډاډمن کولو کې مرسته کوي.

په CVD، LPCVD، او PECVD غوښتنلیکونو کې، د سیل کولو اجزا د لوړې تودوخې، خلا، زنګ وهونکي مخکیني ګازونو، او په ځینو مواردو کې د پلازما چاپیریالونو ترکیب سره مخ کیږي. د سیمیکسلاب د لوړ پاکوالي ایزوسټاټیک ګرافایټ سیل کولو حلقې په پراخه کچه د چیمبر دروازې سیلونو، د ګاز جلا کولو جوړښتونو، او د ری ایکټر د ګرمو او سړو سیمو ترمنځ د لیږد زونونو کې کارول کیږي. د لوړ پاکوالي ګرافایټ داخلي کیمیاوي مقاومت د تیریدونکي پروسې ګازونو لکه HCl، NH₃، او هالوجن پر بنسټ مخکیني په شتون کې باثباته عملیات فعالوي، پداسې حال کې چې کثافت، ایزوټروپیک مایکرو جوړښت د اوږدې مودې خدمت ژوند په اوږدو کې د ذراتو تولید او میخانیکي تخریب کموي. د فلزي سیل کولو حلونو په پرتله، د ګرافایټ سیل کولو حلقې د زنګ وهلو او تودوخې ستړیا لپاره غوره مقاومت وړاندې کوي، چې د اوږدې ساتنې وقفې او د لوړ حجم تولید کې د پروسې تکرار ښه کولو کې مرسته کوي.

د لوړې تودوخې خپریدل، اکسیډیشن، او د تودوخې چټک پروسس د سختو تودوخې، د تودوخې چټک ریمپ نرخونو، او د پروسې بار بار سایکل چلولو له امله د سیل کولو فعالیت باندې سختې غوښتنې لري. پدې چاپیریالونو کې، د سیمیکسلاب لوړ پاکوالي ایزوسټاټیک ګرافایټ سیل کولو حلقې د 1100 ° C څخه ډیر تودوخې کې د سیل کولو دوامداره بشپړتیا ساتي، د فرنس ټیوبونو او RTP چیمبرونو کې د مستحکم اتموسفیر کنټرول ملاتړ کوي. د ایزوسټاټیک فشار لخوا چمتو شوي یونیفورم میخانیکي ملکیتونه د ګړندي تودوخې او یخولو پرمهال د ځایی فشار غلظت، مایکرو کریکینګ، او د سیل تحریف مخنیوي کې مرسته کوي، په دې توګه د مستحکم ډوپینټ خپریدو پروفایلونو، یونیفورم آکسایډ وده، او د تکرار وړ حرارتي پروسې پایلو کې مرسته کوي چې د پرمختللي منطق او حافظې وسیلې جوړولو لپاره مهم دي.

د ایچ پروسې کې، د وچ ایچنګ غوښتنلیکونو په شمول چې د هالوجن پر بنسټ کیمیاوي او پلازما مرسته شوي چاپیریال کاروي، د سیل کولو حلقې اړین دي چې د خلا بشپړتیا وساتي پداسې حال کې چې د ذراتو تولید او کیمیاوي تخریب محدودوي. د سیمیکسلاب لوړ پاکوالي ایزوسټیټیک ګرافایټ سیل کولو حلقې معمولا په غیر مستقیم پلازما افشا کولو زونونو کې ځای په ځای کیږي، لکه د چیمبر محیطي سیل کولو انٹرفیسونه او ساختماني جلا کولو سیمې. کله چې د مناسب سطحې کثافت یا محافظتي پوښونو سره یوځای شي، دا سیل کولو حلقې د زنګ وهونکي ایچ ګازونو او تودوخې فشار ته د باور وړ مقاومت چمتو کوي، د مستحکم چیمبر شرایطو ملاتړ کوي او د ککړتیا پورې اړوند د حاصلاتو ضایع کیدو خطر کموي.

د موادو پاکوالي، ساختماني ثبات، او اوږدمهاله اعتبار باندې تمرکز سره انجینر شوی، د سیمیکسلاب لوړ پاکوالي ایزوسټیټیک ګرافایټ سیل کولو حلقه د پرمختللي کوټینګ ټیکنالوژیو سره مطابقت او د پیچلي سیمیکمډکټر تجهیزاتو جوړښتونو کې ادغام دوی د مخکښ او بالغ پروسې نوډونو لپاره یو باوري حل ګرځوي. د خورا تقاضا لرونکي پروسې شرایطو لاندې د دوامداره سیل کولو فعالیت وړاندې کولو سره، سیمیکسلاب د سیمیکمډکټر تولید کونکو سره د لوړ حاصل، د تجهیزاتو ښه کارونې، او د ملکیت ټیټ ټول لګښت ترلاسه کولو کې مرسته کوي. موږ په صادقانه توګه په چین کې ستاسو د اوږدمهاله ملګري کیدو ته سترګې په لار یو.